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Leica EM ACE200真空鍍膜儀的技術參數
點擊次數：1355 更新時間：2022-05-24
真空鍍膜儀主要用來在非導電材料表面蒸發或者濺射沉積納米導電薄膜，用來提高樣品的表面導電性能，同時由于厚度僅為幾個納米，可以很好保持樣品原始的表面形貌。
Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。
主要技術參數：
· 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網格表面親水化）
· 設計脈沖式碳絲蒸發方式，可精確控制碳膜厚度
· 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm
· 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
· 觸摸屏控制，簡單方便
· 真空度7×10-3mbar
· 濺射電流：0-150mA可調
· 方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）
· 工作距離調節范圍：30mm-100mm
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